ION WAVE 10 批次等离子系统

与射频等离子体相比，微波会产生更高密度的等离子体（离子/基团）和更低的基板感应偏压。由于这一事实，预计微波等离子体中光刻胶的灰化率更高，等离子体损伤更低。IoN Wave 10 等离子系统专为研发和小规模生产应用而设计。PVA TePla 是一种经过验证且值得信赖的全球资源，可提供高质量、可靠、经济高效且易于操作的气体等离子系统。它为各种应用提供了一些***和创新的解决方案。

典型应用

光刻胶灰化和除渣

在较低温度下去除SU-8

钝化层蚀刻

设备解封

表面清洁

表面活化

功能包括：

小脚印桌面设计

即插即用自安装

带液晶触摸屏和键盘的工业计算机。基于Windows 的操作系统

图形用户界面(GUI) 软件符合CFR Title 21 Part 11 和Semi E95-1101

多级用户访问

软件用于快速和多功能步骤控制的配方编辑器

板载诊断功能和报警记录

通过以太网进行远程过程监控

基于网络的在线模拟/培训/支持