嘉兴科民电子设备技术有限公司
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嘉兴科民
TALD-D 双腔热型原子层沉积系统
参考报价:电议
型号:TALD-D 双腔热型原子层沉积系统
产地:浙江
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详细介绍:
ALD系列原子层沉积系统是专门为先进半导体工艺开发的薄膜沉积系统,已在国内高校和科研院所装机超百台。以优良的品质,极高的可靠性,超长的使用寿命受到客户的认可,产品性能和售后服务得到用户一致好评。
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