NISSAN TANAKA TORR-LAR 日本 超高纯气体二次侧微压稳压方案2026/10/30 阅读:2
方案摘要
行业痛点:高纯氮气、氩气与氢气在送入 CVD、外延与 GC 载气工位前,一次侧钢瓶或管路压力随消耗下降,普通减压阀二次侧出口随流量与入口压力漂移,后端质量流量控制器与分析仪器在压力波动下读数漂移;半导体气路对颗粒与水分敏感,普通螺纹接气部表面粗糙度不足,残留气体置换慢、颗粒释放影响工艺良率;有毒与高纯气体管路对外泄漏率要求苛刻,普通阀类氦检漏指标不达标;二次侧需要 0.06MPa 以下微压区间时,常规减压阀调节粗糙、起步跳动明显,无法稳定在微压点。
解决方案:方案在高纯气体管路二次侧配置 NISSAN TANAKA TORR-LAR 超高纯气体微压压力调节器,入口最高使用压力 1.5MPa,出口最高使用压力 0.06MPa,最大流量 40L/min,条件为 N2、P1 0.1MPa、P2 0.06MPa;使用温度 -5 至 +40℃,出入口口径 3/8 英寸,整机约 5.2kg。接气部本体与隔膜均为 SUS316L,标准表面粗糙度 Ra0.25μm,可选 Ra0.1μm 电解研磨;一次室流路内置过滤结构,降低内部泄漏与颗粒释放。设备在 0.3μm Class1000 洁净室内组装,出厂逐台氦检漏,外部泄漏率 1.3×10⁻⁸ Pa·m³/s 以下。按气体类别配置于高纯氮、氩、氦、氢、氧等工艺气体管路,后端衔接 MFC、色谱载气与燃烧气入口;腐蚀性气体对照同系列耐蚀分支选型。
方案优势:0.06MPa 出口上限覆盖微压精密控制区间,调节平稳无脉动,保护后端 MFC 与分析仪器免受压力波动冲击;SUS316L 接气部与电解研磨表面降低气体滞留与杂质吸附,适合先进制程对纯度的要求;Class1000 洁净组装与全数氦检漏从源头控制颗粒与外漏风险;3/8 英寸接口适配常规高纯气管路,按气体与流量对照耐蚀分支选型;适用于晶圆、光伏、显示、分析检测与科研装置多类气路场景。接口形式、表盘配置与特注规格以正式规格书为准。






