行业痛点： 在材料研发和配方筛选阶段，样品量少、配方更换频繁、实验台空间有限。大型研磨设备清洗麻烦、占用空间大，不适合频繁更换配方。研发人员需要一台能够快速清洗、灵活操作、适合小批量样品处理的研磨设备。

方案内容： 石川D101S桌上型自动乳钵，处理容积0.2L，乳钵内径115mm，专为研发和小批量样品设计。该设备处理容积为0.2L，乳钵内径115mm，深度67mm，转速8至50rpm可调，配备1根乳棒。外形尺寸为W242×D330×H340mm，电源为单相100至120V。D101S标配转速变更功能和定时器，可以设置固定的研磨条件，保证批次间的一致性。OR式轨迹模拟手工研磨的揉搓动作。

技术参数： 处理容积0.2L，乳钵内径115mm，深度67mm。转速8~50rpm。电源单相100~120V。