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等离子化学气相沉积系统-PECVD

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产品介绍

等离子化学气相沉积系统-PECVD

ZYE-1200-PE

为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。它是由500W射频电源、1200℃单温区管式炉、三通道质量流量混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统用于生长纳米线、石墨烯或SiC薄膜等

**技术参数**
型号	ZYE-1200-PE
工作温度	**温度：1200℃（使用是必须通入惰性气体以防炉管发生形变）工作温度：1100℃推荐升温速率：≤10℃/min
控温精度	±1℃
配置炉管尺寸	Φ50（外）×1200mm（其他可定制）
炉膛尺寸	Φ80×280mm
加热区	加热长度：220mm 恒温区长度：60-80mm（±3℃）
控制方式	PID控制和自整定调节功能，智能化30段可编程控制，具有超温及段偶功能K型热电偶，可安装PC控制软件对数据进行实时采集（需另购）
密封系统	不锈钢密封法兰（包括316L针阀、真空机械压力表、软管接头）
加热元件	北京首钢HRE
**功率	3kW
供气系统	三路高精度MFC 量程0-500sccm（按客户需求定）
射频电源	射频功率：5-500W 射频频率：13.56MHz 匹配方式：自动匹配
真空系统	双级旋片真空泵（可定制扩散泵分子泵等）
额定电压	单相AC220V 50/60Hz
外形尺寸	16006001200mm（长宽高）